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锂电池保护芯片的作用
锂电池保护芯片工作原理中的主要元器件的介绍:
1、IC:它是保护芯片的核心，首先取样电池电压，然后通过判断发出各种指令。MOS管:它主要起开关作用
2、保护芯片正常工作:保护芯片上MOS管刚开始可能处于关断状态，磷酸铁锂电池接上保护芯片后，必须先触发MOS管，P+与P-端才有输出电压，触发常用方法——用一导线把B-与P-短接。
3、保护芯片过充保护:在P+与P-上接上一高于电池电压的电源，电源的正极接B+、电源的负极接B-，接好电源后，电池开始充电，电流方向如图所示的I1的流向电流从电源正极出发，流经电池、D1、MOS2到电源负极，IC通过电容来取样电池电压的值，当电池电压达到4.25v时，IC发出指令，使引脚CO为低电平，这时电流从电源正极出发，流经电池、D1、到达MOS2时由于MOS2的栅极与CO相连也为低电平，MOS2关断，整个回路被关断，电路起到保护作用。
4、保护芯片过放保护:在P+与P-上接上一合适的负载后，电池开始放电其电流方向如I2，电流从电池的正极经负载、D2、MOS1到电池的负极，（这时MOS2被D2短路）；当电池放电到2.5v时IC采样并发出指令，让MOS1截止，回路断开，电池被保护了。
线路板的正片:一般是我们讲的pattern制程,其使用的液为碱性蚀刻正片若以底片来看,要的线路或铜面是黑的,而不要部份则为透明的,同样地经过线路制程曝光后,透明部份因干膜阻剂受光照而起化学作用硬化,接下来的显影制程会把没有硬化的干膜冲掉,接着是镀锡铅的制程,把锡铅镀在前一制程(显影)干膜冲掉的铜面上,然后作去膜的动作(去除因光照而硬化的干膜),而在下一制程蚀刻中,用碱性水咬掉没有锡铅保护的铜箔(底片透明的部份),剩下的就是我们要的线路(底片黑的部份)
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大面积铜箔距外框应至少确保0.2mm以上的间距，因在铣外形时如铣到铜箔上容易形成铜箔起翘及由其引起的阻焊剂脱落问题。外形边框规划的不明确有的客户在Keep layer、Board layer、Top over layer等都规划了外形线且这些外形线不重合，形成pcb生产厂家很难判断以哪条外形线为准。图形规划不均匀在进行图形电镀时形成镀层不均匀，影响质量。铺铜面积过大时使用网格线,避免SMT时起泡
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一般PCB基本规划流程如下:前期预备->PCB结构规划->PCB布->布线->布线优化和丝印->网络和DRC查看和结构查看->制版。这包含预备元件库和原理图。“工欲善其事，必先利其器”，要做出一块好的板子，除了要规划好原理之外，还要画得好。在进行PCB规划之前，首先要预备好原理图SCH的元件库和PCB的元件库。元件库能够用peotel 自带的库，但一般状况下很难找到适宜的，most 好是自己依据所选器材的规范尺度资料自己做元件库。准则上先做PCB的元件库，再做SCH的元件库。PCB的元件库要求较高，它直接影响板子的装置;SCH的元件库要求相对比较松，只要留意界说好管脚属性和与PCB元件的对应关系就行。PS:留意规范库中的躲藏管脚。之后就是原理图的规划，做好后就预备开端做PCB规划了。
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