石河子锂电池充电芯片怎么挑选
锂电池保护芯片的作用
锂电池保护芯片工作原理中的主要元器件的介绍:
1、IC:它是保护芯片的核心，首先取样电池电压，然后通过判断发出各种指令。MOS管:它主要起开关作用
2、保护芯片正常工作:保护芯片上MOS管刚开始可能处于关断状态，磷酸铁锂电池接上保护芯片后，必须先触发MOS管，P+与P-端才有输出电压，触发常用方法——用一导线把B-与P-短接。
3、保护芯片过充保护:在P+与P-上接上一高于电池电压的电源，电源的正极接B+、电源的负极接B-，接好电源后，电池开始充电，电流方向如图所示的I1的流向电流从电源正极出发，流经电池、D1、MOS2到电源负极，IC通过电容来取样电池电压的值，当电池电压达到4.25v时，IC发出指令，使引脚CO为低电平，这时电流从电源正极出发，流经电池、D1、到达MOS2时由于MOS2的栅极与CO相连也为低电平，MOS2关断，整个回路被关断，电路起到保护作用。
4、保护芯片过放保护:在P+与P-上接上一合适的负载后，电池开始放电其电流方向如I2，电流从电池的正极经负载、D2、MOS1到电池的负极，（这时MOS2被D2短路）；当电池放电到2.5v时IC采样并发出指令，让MOS1截止，回路断开，电池被保护了。
在相同介质厚度和材料下,具有较高的特性阻抗值,一般要大20～40Ψ。因此,对高频和高速数字信号传输大多采用微带线结构的设计。同时,特性阻抗值将随着介质厚度的增加而增大。所以,对于特性阻抗值严格控制的高频线路来说,对覆铜板的介质厚度的误差应提出严格要求,一般来说,其介质厚度变化不超过10%。对于多层板来说,介质厚度还是个加工因素,是与多层层压加工密切相关,因此,也应严密加以控制。在实际电路板生产中,导线的宽度、厚度、缘材料的介电常数和缘介质厚度的稍微改变都会引起特性阻抗值发生变化。另外特性阻抗值还会与其它生产因素有关。所以,为了实现对特性阻抗的控制,生产者了解影响特性阻抗值变化的因素,掌握实际生产条件,根据设计者提出的要求,调整各个工艺参数,使其变化在所允许的公差范围内,以得到期望的阻抗值。
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层压板原材料原因:上面有提到普通电解铜箔都是毛箔镀锌或镀铜处理过的产品，若毛箔生产时峰值就异常，或镀锌/镀铜时，镀层晶枝不良，造成铜箔本身的剥离强度就不够，该不良箔压制板料制成PCB后在电子厂插件时，铜线受外力冲击就会发生脱落。此类甩铜不良剥开铜线看铜箔毛面（即与基材接触面）不会后明显的侧蚀，但整面铜箔的剥离强度会很差。铜箔与树脂的适应性不良:现在使用的某些性能的层压板，如HTg板料，因树脂体系不一样，所使用固化剂一般是PN树脂，树脂分子链结构简单，固化时交联程度较低，势必要使用峰值的铜箔与其匹配。当生产层压板时使用铜箔与该树脂体系不匹配，造成板料覆金属箔剥离强度不够，插件时也会出现铜线脱落不良。
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水洗问题: 为沉铜电镀处理要经过大量的化学水处理，各类酸碱无有机等品溶剂较多，板面水洗不净， 是沉铜调整除油剂，不仅会造成交叉污染，同时也会造成板面部处理不良或处理效果不佳，不均匀的缺陷， 造成一些结合力方面的问题；因此要注意加强对水洗的控制，主要包括对清洗水水流量，水质，水洗时间， 和板件滴水时间等方面的控制；冬天气温较低,水洗效果会大大降低,更要注意将强对水洗的控制；沉铜前处理中和图形电镀前处理中的微蚀: 微蚀过度会造成孔口漏基材，造成孔口周围起泡现象；微蚀不足也会造成结合力不足，引发起泡现象；因此 要加强对微蚀的控制；一般沉铜前处理的微蚀深度在1.5---2微米,图形电镀前处理微蚀在0.3---1微米,有条件 most好通过化学分析和简单试验称重法控制微蚀厚度或为蚀速率；一般情况下微蚀後的板面泽鲜艳,为均匀粉红 ,没有反光；如果颜不均匀,或有反光说明制程前处理存在质量隐患；注意加强检查；另外微蚀槽的铜含量, 槽液温度,负载量,微蚀剂含量等都是要注意的项目；
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