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锂电池保护芯片的作用
锂电池保护芯片工作原理中的主要元器件的介绍:
1、IC:它是保护芯片的核心，首先取样电池电压，然后通过判断发出各种指令。MOS管:它主要起开关作用
2、保护芯片正常工作:保护芯片上MOS管刚开始可能处于关断状态，磷酸铁锂电池接上保护芯片后，必须先触发MOS管，P+与P-端才有输出电压，触发常用方法——用一导线把B-与P-短接。
3、保护芯片过充保护:在P+与P-上接上一高于电池电压的电源，电源的正极接B+、电源的负极接B-，接好电源后，电池开始充电，电流方向如图所示的I1的流向电流从电源正极出发，流经电池、D1、MOS2到电源负极，IC通过电容来取样电池电压的值，当电池电压达到4.25v时，IC发出指令，使引脚CO为低电平，这时电流从电源正极出发，流经电池、D1、到达MOS2时由于MOS2的栅极与CO相连也为低电平，MOS2关断，整个回路被关断，电路起到保护作用。
4、保护芯片过放保护:在P+与P-上接上一合适的负载后，电池开始放电其电流方向如I2，电流从电池的正极经负载、D2、MOS1到电池的负极，（这时MOS2被D2短路）；当电池放电到2.5v时IC采样并发出指令，让MOS1截止，回路断开，电池被保护了。
SMT锡或助焊剂质量及技术引起的不良这一类情况多数出现在插件的过孔．SMT厂家所使用的锡不纯，杂质太多．以及助焊剂质量太差．锡与锡熔接不好．这种容易引起虚焊．元器件不工作．另外SMT在技术上存在问题，焊接时在过锡炉时停流的时间过长．导致孔铜熔掉了．从而引起的过孔不通．电路板生产工艺中，沉金和镀金工艺属于普遍的使用工艺，由于此两种工艺解决了喷锡工业中，焊盘难平整的问题，随着社会对电子产品的功能和尺寸外观的严格要求，导致PCB板作为电子元器件的母板而变得越来越精密，电子产品是IC和BGA对线路板焊盘的平整性要求高，所以沉金和镀金工艺从某种意义上可以替代喷锡工艺。铅锡合金的待焊接周期要比沉金或者镀金板的时间短很多。
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单面焊盘孔径设置单面焊盘一般不钻孔，若钻孔需标注，其孔径应设计为零。如果设计了数值，这样在产生钻孔数据时，此位置就出现了孔座标，而出现问题。单面焊盘如钻孔应标注。在钻孔工序会因为在一处多次钻孔导致断钻头，导致孔损伤。多层板中两个孔重叠，绘出底片后表现为隔离盘，造成报废。九、设计中填充块太多或填充块用细线填充产生光绘数据有丢失现象，光绘数据不。因填充块在光绘数据处理时是用线一条一条去画，因此产生光绘数据量相当大，增加了数据处理难度。
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镀层发暗和泽不均匀:镀层发暗和泽不均匀，就阐明有金属污染。由于一般都是先镀铜后镀镍，所以带入的铜溶液是首要的污染源。重要的是，要把挂具所沾的铜溶液削减到较低程度。为了去除槽中的金属污染，尤其是去铜溶液应该用波纹钢阴，在2~5安/平方英尺的电流密度下，每加仑溶液空镀5安培一小时。前处理不良、低镀层不良、电流密度太小、主盐浓度太低、电镀电源回路接触不良都会影响镀层泽。镀层烧伤:引起镀层烧伤的或许原因:硼酸缺乏，金属盐的浓度低、作业温度太低、电流密度太高、PH太高或拌和不充分。
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