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锂电池保护芯片的作用
锂电池保护芯片工作原理中的主要元器件的介绍:
1、IC:它是保护芯片的核心，首先取样电池电压，然后通过判断发出各种指令。MOS管:它主要起开关作用
2、保护芯片正常工作:保护芯片上MOS管刚开始可能处于关断状态，磷酸铁锂电池接上保护芯片后，必须先触发MOS管，P+与P-端才有输出电压，触发常用方法——用一导线把B-与P-短接。
3、保护芯片过充保护:在P+与P-上接上一高于电池电压的电源，电源的正极接B+、电源的负极接B-，接好电源后，电池开始充电，电流方向如图所示的I1的流向电流从电源正极出发，流经电池、D1、MOS2到电源负极，IC通过电容来取样电池电压的值，当电池电压达到4.25v时，IC发出指令，使引脚CO为低电平，这时电流从电源正极出发，流经电池、D1、到达MOS2时由于MOS2的栅极与CO相连也为低电平，MOS2关断，整个回路被关断，电路起到保护作用。
4、保护芯片过放保护:在P+与P-上接上一合适的负载后，电池开始放电其电流方向如I2，电流从电池的正极经负载、D2、MOS1到电池的负极，（这时MOS2被D2短路）；当电池放电到2.5v时IC采样并发出指令，让MOS1截止，回路断开，电池被保护了。
时钟产生器(如:晶振或钟振)要尽量接近用到该时钟的器材;在每个集成电路的电源输入脚和地之间，需加一个去耦电容(一般采用高频功能好的独石电容);电路板空间较密时，也可在几个集成电路周围加一个钽电容。继电器线圈处要加放电二管(1N4148即可);布要求要均衡，疏密有序，不能头重脚轻或一头沉。需求留意，在放置元器材时，必定要考虑元器材的实践尺度大小(所占面积和高度)、元器材之间的相对方位，以确保电路板的电气功能和出产装置的可行性和便利性一起，应该在确保上面准则能够表现的前提下，适当修改器材的摆放，使之整齐漂亮，如同样的器材要摆放整齐、方向共同，不能摆得“错落有致” 。
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水洗问题: 为沉铜电镀处理要经过大量的化学水处理，各类酸碱无有机等品溶剂较多，板面水洗不净， 是沉铜调整除油剂，不仅会造成交叉污染，同时也会造成板面部处理不良或处理效果不佳，不均匀的缺陷， 造成一些结合力方面的问题；因此要注意加强对水洗的控制，主要包括对清洗水水流量，水质，水洗时间， 和板件滴水时间等方面的控制；冬天气温较低,水洗效果会大大降低,更要注意将强对水洗的控制；沉铜前处理中和图形电镀前处理中的微蚀: 微蚀过度会造成孔口漏基材，造成孔口周围起泡现象；微蚀不足也会造成结合力不足，引发起泡现象；因此 要加强对微蚀的控制；一般沉铜前处理的微蚀深度在1.5---2微米,图形电镀前处理微蚀在0.3---1微米,有条件 most好通过化学分析和简单试验称重法控制微蚀厚度或为蚀速率；一般情况下微蚀後的板面泽鲜艳,为均匀粉红 ,没有反光；如果颜不均匀,或有反光说明制程前处理存在质量隐患；注意加强检查；另外微蚀槽的铜含量, 槽液温度,负载量,微蚀剂含量等都是要注意的项目；
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针对底片随环境温湿度变化而改变的物理现象，采取拷贝底片前将密封袋内的底片拿出，工作环境条件下晾挂4-8小时，使底片在拷贝前就先变形，这样就会使拷贝后的底片变形就很小，称此法“晾挂法”。对于线路简单、线宽及间距较大、变形不规则的图形，可采用将底片变形部分剪开对照钻孔试验板的孔位重新拚接后再去拷贝，称此法“剪接法”。采用试验板上的孔放大成焊盘去重变形的线路片，以确保most小环宽技术要求，称此法为“焊盘重叠法”。
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