通化锂电池充电芯片供应厂家
锂电池保护芯片的作用
锂电池保护芯片工作原理中的主要元器件的介绍:
1、IC:它是保护芯片的核心，首先取样电池电压，然后通过判断发出各种指令。MOS管:它主要起开关作用
2、保护芯片正常工作:保护芯片上MOS管刚开始可能处于关断状态，磷酸铁锂电池接上保护芯片后，必须先触发MOS管，P+与P-端才有输出电压，触发常用方法——用一导线把B-与P-短接。
3、保护芯片过充保护:在P+与P-上接上一高于电池电压的电源，电源的正极接B+、电源的负极接B-，接好电源后，电池开始充电，电流方向如图所示的I1的流向电流从电源正极出发，流经电池、D1、MOS2到电源负极，IC通过电容来取样电池电压的值，当电池电压达到4.25v时，IC发出指令，使引脚CO为低电平，这时电流从电源正极出发，流经电池、D1、到达MOS2时由于MOS2的栅极与CO相连也为低电平，MOS2关断，整个回路被关断，电路起到保护作用。
4、保护芯片过放保护:在P+与P-上接上一合适的负载后，电池开始放电其电流方向如I2，电流从电池的正极经负载、D2、MOS1到电池的负极，（这时MOS2被D2短路）；当电池放电到2.5v时IC采样并发出指令，让MOS1截止，回路断开，电池被保护了。
水洗问题:因为沉铜电镀处理要经过大量的化学水处理，各类酸碱无有机等品溶剂较多，板面水洗不净，是沉铜调整除油剂，不仅会造成交叉污染，同时也会造成板面部处理不良或处理效果不佳，不均匀的缺陷，造成一些结合力方面的问题；因此要注意加强对水洗的控制，主要包括对清洗水水流量，水质，水洗时间，和板件滴水时间等方面的控制；冬天气温较低,水洗效果会大大降低,更要注意将强对水洗的控制；沉铜前处理中和图形电镀前处理中的微蚀；微蚀过度会造成孔口漏基材，造成孔口周围起泡现象；微蚀不足也会造成结合力不足，引发起泡现象；因此要加强对微蚀的控制；一般沉铜前处理的微蚀深度在1.5---2微米,图形电镀前处理微蚀在0.3---1微米,有条件most好通过化学分析和简单试验称重法控制微蚀厚度或为蚀速率;一般情况下微蚀後的板面泽鲜艳,为均匀粉红,没有反光;如果颜不均匀,或有反光说明制程前处理存在质量隐患;注意加强检查;另外微蚀槽的铜含量,槽液温度,负载量,微蚀剂含量等都是要注意的项目；
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创建的工程文件网络表只能部分调入pcb:生成netlist时没有选择为global。当使用自己创建的多部分组成的元件时，千万不要使用annotate.PCB制造过程中常见错误造成重孔，在钻孔时因为在一处多次钻孔导致断钻及孔的损伤。多层板中,在同一位置既有连接盘,又有隔离盘,板子做出表现为 隔离,连接错误。图形层使用不规范违反常规设计,如元件面设计在Bottom层,焊接面设计在TOP层, 使人造成误解。
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不这样做的危险阻焊层薄可导致附着力、熔剂抗耐及硬度问题。一切这些问题都会导致阻焊层与电路板脱离，并终究导致铜电路腐蚀。因阻焊层薄而形成缘特性欠安，可因意外的导通/电弧形成短路。界定了外观要求和修补要求，虽然IPC没有界定优点:在制造过程中精心呵护和认真仔细铸就。不这样做的危险多种擦伤、小损伤、修补和修补–电路板能用但不好看。除了外表能看到的问题之外，还有哪些看不到的危险，以及对拼装的影响，和在实际运用中的危险呢？
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